光刻机减振器突破者陈学东院士透露“成功秘诀”—新闻—科学网

2024年5月11日 · 光刻机减振器突破者陈学东院士透露“成功秘诀”. “正是有了无数个一丝不苟的攻关,才促成了我国首台IC光刻机的问世。. ”5月10日,华中科技 ...

2024年5月27日 · 对于中国芯片行业来说,用现有的DUV光刻机生产5纳米工艺则具有重要意义,如今先进芯片在诸多行业的应用都越来越广泛,先进芯片可以提供更强的性能、更低的功耗,除了手机需要之外, 服务器 、PC都需要先进工艺的芯片,特别是服务器行业,耗电量巨大,互联网企业为了降低功耗甚至在北极圈内建设 数据中心 。 对于这些行业来说,中国目前恰恰因为某 …

2023年10月31日 · 5纳米工艺是当今全球半导体产业中最领先的技术之一,它能够制造出更高效、更节能的芯片。 与此同时,自研芯片的突破则彰显了中国在高性能芯片设计和制造方面的卓越能力,将提升中国在全球半导体市场上的竞争地位。

2020年7月13日 · 近期,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员与国家纳米中心刘前研究员合作,在Nano Letters上发表了题为“5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography”的研究论文,报道了一种他们开发的新型5 nm超高精度

2020年7月9日 · 国产光刻机产业链,又迎好消息。. 近日,据中国微米纳米技术学会报道,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员,与国家纳米科学中心刘前研究员合作,在《纳米快报》(Nano Letters)上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙 ...

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