因为光刻机大多数都是以光源类型来定义的,ASML最先进的光刻机并不叫3nm光刻机,而是叫EUV光刻机——EUV指的是它采用了波长仅为13.5nm的极紫外光源。不过,为了方便行文讨论,本文姑且就将...
在2020年,金融局走访调研上海微电子时,上海微电子预计将于2022年交付首台28nm工艺国产沉浸式光刻机,国产光刻机将从此前的90nm制程一举突破到28nm制程。上海微电子在中端先进封装光刻机和LED光刻机领域技术领先,先进封装光刻机国内市场...
从技术角度而言,我国的确已经取得了不小的进步,比如上海微电子在去年就传出了今年年底会推出支持生产28nm芯片的国产DUV光刻机,而像中科院这几年也在光刻技术上屡有建树,之前还提出了快速光学邻近效应修正技术,使得我国自主光刻技术有了重...
光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技...
如上图：国产光刻机的进展处于从2到3的跨越中 光刻机 到底缺不缺？答案是：即缺，也不缺 不缺，是因为 光刻机分两种 DUV：7/14/28/45/90/135nm EUV：2/3/4/5/7nm 日本和欧洲还稳定供应...
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