光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技...
如上图：国产光刻机的进展处于从2到3的跨越中 光刻机 到底缺不缺？答案是：即缺，也不缺 不缺，是因为 光刻机分两种 DUV：7/14/28/45/90/135nm EUV：2/3/4/5/7nm 日本和欧洲还稳定供应...
观察者网·大橘财经讯(文/吕栋 编辑/周远方)历时近4个月,晶瑞股份从韩国进口的二手ASML浸没式光刻机终于到货,“可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶”。 受此影响,创业板上市的晶瑞...
国产光刻机核心技术再迎突破,哈工大成功研制出了高速超精密激光干涉仪,目前可用于350nm到28nm工艺的光刻机样机集成研制和性能测试,意味着我们离光刻机又近了一步。 要想发展半导体,光刻...
的光源通过水介质折射后进一步缩短,而将193nm的光源通过水介质折射后用于生产28nm、14nm的光源原理应该类似,近期就有业界人士传出国产的光源技术已成功取得突破,将光源缩短到13.5nm,如...
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