90nm到9nm,国产光刻机重大突破 “ 武汉光电国家研究中心 ...

2019年12月31日 · 武汉光电国家研究中心成功研制出一台9nm光刻机,该光刻机使用远场光学,雕刻最小线宽为9nm的线段,实现了从超分辨率成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。. 丨膜链 · 势银旗下媒体平台丨. 来源:膜链. 撰文:Lucem ; 编辑:melody. 12月24日,中国自主开发的 ...

2022年2月13日 · 今年2月7号,上海微电子制造的中国首台封装光刻机已经完成线下交付了,这就意味着中国在芯片、后道、设备上取得了新的突破了,以后西方就没办法在先进的封装设备上去卡中国脖子了。 当然这一台国产光刻机跟我们常常讲了 EVU光刻机、DUV光刻机是不一样的概念的。 这种叫封装光刻机,它主要是用于封装工艺的,而我们说的EVU和DUV光刻机它是用于芯 …

2022年1月26日 · 光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,是集成电路制造行业的核心设备。. 根据2020年国民经济和社会发展统计公报,2020年中国集成电路产量为2614.7亿块,较2019年同比增长29.6%,2016-2020年年均复合增速为18.7%,中国已成为全球规模最大、增速最快的集成电路 …

2024年5月11日 · 光刻机减振器突破者陈学东院士透露“成功秘诀”. “正是有了无数个一丝不苟的攻关,才促成了我国首台IC光刻机的问世。. ”5月10日,华中科技 ...

2020年6月5日 · 据媒体报道,上海微电子装备(集团)股份有限公司创新技术,在之前90nm的基础上,宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机,虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距,但也标志着国产光刻机的飞跃进步,在逐渐减少与

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