突破光刻制约,推动光刻胶和光掩模板产业链发展 由于EUV光刻机为荷兰ASML所垄断,美国对高端光刻设备的出口限制使中国企业难以获得7nm及以下制程的核心设备,成为中国半导体产业发展的一大瓶颈。虽然光刻设备自主化在短期内难以完全实现,但中国可在光刻胶和光掩模板等关...
今年9月,工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中,国产光刻机的身影赫然在目,包括110nm的氟化氪光刻机与65nm的氟化氩光刻机,这一成就颠覆了外界对中国光刻机制造能力的...
“光刻机套刻小于8纳米,逻辑上对应的区间,也能上到成熟区间,甚至更高一些。但别指望它覆盖手机用的处理器工艺,主要还是面向成熟区间。”半导体行业资深观察人士王如晨对记者表示,工信部文件表格里不止氟化氩光刻机,还有配套设备,是个小生态,“看工艺节点,都侧重成熟区...
东兴证券称,国内企业中,上海微电子是目前中国第一家也是唯一家光刻机巨头,出货量已占国内市场份额超过80%,产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域,其已具备90nm及以下的芯片制造能力。 光刻...
据国际半导体产业协会(SEMI)估计,中国芯片制造商的产能将在2025年提高14%,是世界其他国家的两倍多,到2025年将达到每月1010万片,约占全球总产量的三分之一。 当被问及中国是否能重新制造出EUV光刻设备时,ASML表示,鉴于开发过程的复杂性,现在还远远不可能。
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