从7nm到5nm:国产光刻机的突破,从告别自嗨开始 - 腾讯网

2023年2月25日 · 日前,光刻机市场有两个新的动向,一个是哈尔滨工业大学公布了一项“高速超精密激光干涉仪”研发成果,并获得了首届“金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖,被一些人宣称解决了7nm以下的光刻机难题。. 一个是国内某公司开发了SAQP技术,可以做到不需要EUV ...

2024年4月17日 · 近日,我国科技界传来振奋人心的消息,首台国产5纳米光刻机成功问世,标志着我国在半导体制造领域取得了重大技术突破。. 这一里程碑式的成果不仅彰显了我国科技实力的飞速提升,也为国家半导体产业的自主发展奠定了坚实基础。. 中国首台国产5纳米光刻 ...

2023年5月17日 · 近日,我国EUV光刻机研发取得重大突破。 近年来在西方技术封锁下,先进半导体关键制造设备EUV光刻机被限制出口至中国大陆。 而面对西方的不断打压,我国科研人员潜心研发, 终于成功研制出EUV重要部件——光源工程化样机,为我国突破“卡脖子”技术做出 ...

2024年5月18日 · 长期以来高端光刻机机一直被“卡脖子”,而今中国科学院上海光学精密机械研究所在极紫外光源方面的突破,为中国打破芯片僵局,实现科技自立提供了实力的保障。

2019年12月31日 · 武汉光电国家研究中心成功研制出一台9nm光刻机,该光刻机使用远场光学,雕刻最小线宽为9nm的线段,实现了从超分辨率成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。. 丨膜链 · 势银旗下媒体平台丨. 来源:膜链. 撰文:Lucem ; 编辑:melody. 12月24日,中国自主开发的 ...

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