不黑不吹,仅光刻机突破28nm,救不了中国半导体产业

如果指最高工艺的话,这个28nm究竟是怎么得出来的,浸润式不应该是最高7nm么,而普通的ArF Dry最高一般是65nm? 然后如果指分辨率的话,如下图所示,ASML的浸润式光刻机NXT:1980Di分辨率为38n...

早在2020年6月5日,上海微电子装备集团发布声明称,公司在之前90nm的基础上,在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机,虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距,...

随后在12月5日,联合新闻网等台媒报道称,在青岛正式投产的富士康集团第一座晶圆级封测厂,引进多达46台上海微电子的28nm光刻机。报道称,该光刻机8月完成技术检测和认证,意味着上海微...

并非如此。看看我们国内光刻机的巨头上海微电子,虽说和ASML差距很大,但是在2023年,该企业的28nmDUV光刻机也即将下线。当然,短时间内不能将所有国内市场需求都满足,但这至少给了我们一个突围的开端,美拉拢盟友的效果就会大打折扣。

△只能看懂一个28nm 但即便如此,因为制造光刻机登天之难、以及俄罗斯的资源储备,网友们对这个消息并不太信: 确定不是个玩笑?! 巧的是,就在这消息放出前一天,俄罗斯最大芯片制造商Mikron...

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